Annuaire

Depuis 01/05/2022 Ingénieure d’Etude micro-nanofabrication

• Responsable Bâtis gravure plasma (RIE oxford plasmalab 100 et IBE Plassys MU400)
• Responsable litho UV (Süss microtech MJB4)
• Développement de protocoles de fabrication (résine, lithographie UV (MJB4 Mask aligner de Süss Microtech) et e-beam (RAITH Pioneer) , gravure)
• Caractérisation MEB (JEOL JSM7600F)
• Autre : membre commission QVT

01/08/2018  Assistante Ingénieure CNRS ICB

• Responsable des bâtis de Gravure RIE (oxford plasmalab 100) et IBE (Plassys MU400)
• Développement de protocoles de fabrication (résine, lithographie UV (MJB4 Mask aligner de Süss Microtech) et e-beam (RAITH Pioneer) , gravure)
• Caractérisation MEB (JEOL JSM7600F)

01/08/2009 au 01/08/2018   Assistante Ingénieur Métallurgie des poudres CNRS ICB

01/01/2004 au 01/08/2009  Assistante Ingénieur couches minces, CNRS ICMMO

• Responsable d’un réacteur industriel de MOCVD (Alcatel)

 01/11/1998-01/01/2004  Assistant Ingénieur instrumentation CNRS Synchrotron LURE, 

• Technicienne sur un poste d’expérience de diffraction de rayons X en incidence rasante.

• Gallet, F. Naimi, H. Couque, F. Bernard «Influence de l’atmosphère lors du frittage par SPS d’une poudre de cuivre broyée sur les propriétés en traction » PMF 2017 – Toulouse, France – 2017 (poster) Auteur
• Bernard, L. Minier, F. Naimi, S. Le Gallet, I. Gallet, N. Richard, JP. Chateau-Cornu «Développements récents et perspectives du frittage sous charge » Colloque : « la métallurgie, quel avenir ? » – Saint Etienne – 2016 (Oral) Collaborateur
• Galicka-Fau , M. Andrieux, C. Legros, M. Herbst-Ghysel, I. Gallet, M. Brunet, E. Scheid, S. Schamm “ZrO2 thin films grown on 2D and 3D silicon surfaces by DLI-MOCVD for electronic devices” EuroCVD 17-Vienne-Autriche-2009 (POSTER) Collaborateur
• Jouili, M. Andrieux and I. Gallet “Texture and residual stress analysis by ZRD on metastable tetragonal zirconia films obtained by MOCVD” EuroCVD17- Vienne-Autriche-2009 (POSTER) Collaborateur
• Gasqueres, I. Gallet, M. Herbst-Ghysel, M. Andrieux, M. Condat, VG. Kessler, GA. Seisenbaeva, S. Poissonnet, “SrZrO3 thin films grown by direct liquid injection MOCVD”. EuroCVD 15-Bochum- Allemagne-2005(POSTER) Collaborateur

• Bernard, F. Naimi, I. Gallet, M. Ariane, H. Couque, R. Kirchner,J. Hennicke, F. Barthelemy, Homogeneous Large Disk of W-alloys Produced by Hybrid-SPS, proceeding du congrés World PM2016, Hambourg
• Magali Brunet, Emmanuel Scheid, Karolina Galicka-Fau, Michel Andrieux, Corinne Legros, Isabelle Gallet, Michaële Herbst, Sylvie Schamm, Characterization of ZrO₂ thin films deposited by MOCVD for high-density 3D capacitors, Microelectronic Engineering Volume 86, Issue 10, October 2009, Pages 2034-2037
• Galicka-Fau, C. Legros, M. Andrieux, M. Herbst-Ghysel, I. Gallet, M. Condat, O. Durand, B. Servet, Thickness determination of SrZrO3 thin films using both X-ray reflectometry and SIMS techniques”. Thin Solid Films, Volume 516, Issue 22, 30 September 2008, Pages 7967-7973
• Andrieux, C. Gasquères, C. Legros, I. Gallet, M. Herbst-Ghysel, M. Condat, V.G. Kessler, G.A.Seisenbaeva, O. Heintz, S. Poissonnet, Perovskite thin films grown by direct liquid injection MOCVD” Applied Surface Science, Volume 253, Issue 23, 30 September 2007, Pages 9091-9098
• Benali, M. Herbst Ghysel, I. Gallet, A.M. Huntz, M. Andrieux”Stress driven phase transformation in ZrO2 films”. Applied Surface Science, Volume 253, Issue 3, 30 November 2006, Pages 1222-1226

TP nano-fabrication M1&M2 PPN